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至訊創(chuàng)新重磅展出19nm 2D SLC NAND產(chǎn)品

           頂點(diǎn)光電子商城7月11日消息:在慕尼黑上海電子展上,至訊創(chuàng)新科技(無(wú)錫)有限公司展出了基于19nm 2D SLC NAND閃存的全新量產(chǎn)產(chǎn)品,帶來(lái)了存儲(chǔ)行業(yè)在二維閃存芯片領(lǐng)域的最新突破。


          19nm 2D SLC NAND 是一種制程為19納米、采用二維堆棧結(jié)構(gòu)并且每個(gè)存儲(chǔ)單元只能存儲(chǔ)一個(gè)比特?cái)?shù)據(jù)的閃存存儲(chǔ)器產(chǎn)品。它在一些對(duì)性能和數(shù)據(jù)安全性要求較高的應(yīng)用中發(fā)揮著重要的作用。


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          這款全新產(chǎn)品提供了512Mb、1Gb和2Gb等多種容量規(guī)格選擇,旨在滿足工控、車(chē)規(guī)和消費(fèi)等多個(gè)領(lǐng)域的需求。至訊創(chuàng)新通過(guò)精心研發(fā),成功突破了19nm先進(jìn)制程,為客戶提供了卓越的性能和可靠性。


          此款芯片不僅能夠承受工業(yè)控制和汽車(chē)應(yīng)用領(lǐng)域高達(dá)100,000次的擦寫(xiě)操作,確保數(shù)據(jù)的安全性和可靠性,同時(shí)還能滿足消費(fèi)電子領(lǐng)域?qū)τ诟咝詢r(jià)比的需求,提供消費(fèi)級(jí)規(guī)格。


          未來(lái),至訊創(chuàng)新將持續(xù)為存儲(chǔ)領(lǐng)域注入活力,引領(lǐng)存儲(chǔ)行業(yè)創(chuàng)新。